RE标準模塊0.5-3T/h

EDI（electrodeionization）是一種将離子(zǐ)交換技(jì)術、離子(zǐ)交換膜技(jì)術和(hé)離子(zǐ)電(diàn)遷移技(jì)術相(xiàng)結合的(de)純水(shuǐ)制造技(jì)術。在EDI除鹽過程中，離子(zǐ)在電(diàn)場(chǎng)作(zuò)用下(xià)通(tōng)過離子(zǐ)交換膜被清除。另外(wài)在離子(zǐ)交換膜之間(jiān)充填離子(zǐ)交換樹脂，由此，更深層次的(de)去(qù)除水(shuǐ)中的(de)陰陽離子(zǐ)。同時(shí)，水(shuǐ)分子(zǐ)在電(diàn)場(chǎng)的(de)作(zuò)用下(xià)為(wèi)氫離子(zǐ)和(hé)氫氧根離子(zǐ)，這(zhè)些離子(zǐ)對(duì)離子(zǐ)交換樹脂進行連續再生(shēng)，以使離子(zǐ)交換樹脂保持在最佳工(gōng)作(zuò)狀态。EDI在清除弱電(diàn)解質如二氧化(huà)碳，二氧化(huà)矽和(hé)膠體(tǐ)矽方面有(yǒu)較好(hǎo)的(de)效果。EDI設施的(de)除鹽率可以高(gāo)達99%以上(shàng)，經過EDI除鹽後，可以産生(shēng)15-18兆歐的(de)超純水(shuǐ)。

Repure EDI的(de)特點：連續運行，産品水(shuǐ)水(shuǐ)質穩定；無需用酸堿再生(shēng)；不會因再生(shēng)而停機(jī)；節省了反洗和(hé)清洗用水(shuǐ)；産水(shuǐ)率高(gāo)達95%；無再生(shēng)污水(shuǐ)；無需污水(shuǐ)處理(lǐ)設施；無需酸堿儲備和(hé)稀釋設備；占地(dì)面積小(xiǎo)；使用安全，避免工(gōng)人(rén)接觸酸堿。投資不比離子(zǐ)交換高(gāo)。運行成本僅為(wèi)離子(zǐ)交換的(de)65%。

RE系列二級EDI模塊，可以适應一級反滲透系統，特點如下(xià)：

1、不同于市(shì)場(chǎng)上(shàng)絕大部分EDI結構，水(shuǐ)流兩次經過電(diàn)場(chǎng)，産水(shuǐ)水(shuǐ)質穩定且能得到很(hěn)高(gāo)的(de)産水(shuǐ)水(shuǐ)質，進水(shuǐ)水(shuǐ)質要求範圍寬。

2、膜對(duì)電(diàn)壓低(dī)，能耗小(xiǎo)，噸水(shuǐ)耗電(diàn)量不足50Wh。

3、無需加鹽，無需酸堿再生(shēng)，無需化(huà)學清洗，絕對(duì)免維護。

4、全模具化(huà)設計(jì)，雙密封圈設計(jì)，精密美(měi)觀，模塊整體(tǐ)重量輕。

5、積木式設計(jì)，最簡單的(de)系統工(gōng)藝，安裝維護簡便。

RE系列模塊規格型号參數：
 

RE系列EDI模塊進水(shuǐ)水(shuǐ)質要求：

進水(shuǐ)為(wèi)RO産水(shuǐ)，電(diàn)導率＜20µs/cm（推薦＜10µs/cm）。

pH：6.5~9.0（最佳為(wèi)7~8）。

溫度：5~35℃（最佳20~30℃）。

CO2：≤5 mg/L（建議(yì)≤2mg/L ）。

硬度（以CaCO3計(jì)）：≤1.0 mg/L（建議(yì)≤0.1 mg/L）。

氧化(huà)劑：Cl2≤0.01 mg/L，O3≤0.01 mg/L（建議(yì)值為(wèi)0）。

二氧化(huà)矽：＜0.5 mg/L（建議(yì)小(xiǎo)于0.2 mg/L）

總有(yǒu)機(jī)碳（TOC）：≤0.5 mg/L（建議(yì)值為(wèi)0） 

鐵(tiě)、錳、H2S：＜0.01 mg/L（建議(yì)值為(wèi)0）

RE系列模塊外(wài)形尺寸：

工(gōng)藝路(lù)線選擇：

常規工(gōng)藝：預處理(lǐ)+軟化(huà)/阻垢+一級反滲透+PH調節+二級反滲透+EDI

當原水(shuǐ)水(shuǐ)質好(hǎo)，産水(shuǐ)要求也不高(gāo)并且設備計(jì)劃投資額低(dī)的(de)情況下(xià)，可用如下(xià)工(gōng)藝：

預處理(lǐ)+軟化(huà)+（脫氣膜/調PH）+一級反滲透+EDI

本工(gōng)藝一般南方水(shuǐ)質用的(de)較多，還(hái)有(yǒu)如果高(gāo)氟水(shuǐ)地(dì)下(xià)水(shuǐ)水(shuǐ)質，也可适用。